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哈工大EUV光刻机核心技术有重大突破
摘要：哈工大EUV光刻机核心技术有重大突破
近日哈工大再传来炸裂性的消息，研发成功EUV光刻机光源，这将是美国和ASML以LCC EUV联盟垄断EUV光刻机之外的首次。
去年下半年以来，美国又进一步加强了光刻机出口限制，要求ASML不要对中国出售14纳米及以下的EUV光刻机，早前ASML表示它可以对中国出售1980Di光刻机，然而这只是一款38纳米光刻机，远远无法满足中国的需求。
为此中国开始极力推动国产光刻机产业链的发展，而哈工大就多次研发成功重要的光刻机技术，为国产光刻机的发展提供了有力支持，这次再研发成功EUV光刻机光源，为国产EUV光刻机的量产推进了一大步。
